"Technologie Ciała Stałego" TCS-E-1 zal. cząstkowe 2 (sem. letni 2010)
1.Podział procesów wytwarzania struktur warstwowych 2.Grubość i struktura warstw - podziały, przykłady
3.Materiały podłożowe - podział, wymagania, zasady doboru 4.Metody oczyszczania podłoży - związek z materiałem 5.Początkowe stadia wzrostu warstw
6.Aparatura do naparowywania próżniowego i rozpylania katodowego - rola części składowych
7.Parametry sterowania procesem - naparowywania próżniowego oraz rozpylania katodowego 8.Zastosowania praktyczne naparowywania próżniowego i rozpylania katod. 9.Porównanie naparowywania próżniowego i rozpylania katodowego
10.Etapy procesu osadzania chemicznego z fazy gazowej (OCFG) oraz typy stosowanych reakcji 11.OCFG - układ aparatury, parametry sterowania i modyfikacje procesu
12.Porównanie OCFG i metod plazmowo-próżniowych
13.Zastosowania praktyczne OCFG
14. Zasady techniki grubowarstwowej 15. Etapy procesu zol-żel i parametry sterowania procesem
16. Rodzaje powłok zol-żel i ich zastosowania
17. Zasady i przyczyny stosowania metalizacji bezprądowej (katalitycznej) 18. Porównać przygotowanie podłoży: do bezprądowej metalizacji i do elektroosadzania 19. Zastosowania krzywych polaryzacji do określ. warunków elektroosadzania
20. Parametry wpływające na proces elektroosadzania metali (+komentarz)
21. Parametry opisujące otrzymane elch. warstwy metali (+komentarz)
22. Składniki roztworu do elektroosadzania - zasady doboru
23. Dobór gęstości prądu, temperatury, mieszania
24. Wady i zalety procesu elektroosadzania warstw metali 25. Przykłady zastosowań powłok osadzanych bezprądowo i elektrolitycznych 26. Podział właściwości warstw metalicznych i innych powłok oraz ich pomiary Zaliczenie - pisemna odpowiedź na losowo wybrane 3 pytania, po jednym z każdej z trzech grup.
... zobacz całą notatkę
Komentarze użytkowników (0)